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对Ｎｉ－９．７Ｃｒ－５．５ｌ－７Ｔｉ溅射纳米晶涂层进行了空气中高温氧化实验，观察并分析了Ｔｉ的作用及影响，研究结果表明：由于涂层中相对较高的Ｔｉ含量，１０００℃氧化２００ｈ后生成了由α－Ａｌ２Ｏ３和......
采用Ar＋离子束对U薄膜表面进行反应溅射,通过白光干涉仪和台阶仪的测量与分析,着重研究Ar＋离子束溅射能量、入射角度对其表面粗糙度R......
采用高效磁控溅射连续镀膜技术,在介质夹持杆上溅射Nb膜,然后在真空室里放入O2对膜层进行氧化,得到Nb2O5膜层,用测量电阻来控制膜......
利用磁控溅射的方法在K52高温合金上制备同成分的纳米晶涂层,研究了该合金及纳米晶涂层在900℃的循环氧化行为。结果表明：铸态合金......
采用50 keV的N+对100μm厚的芸豆切片和75μm厚的Mylar(聚乙烯对苯二酸酯)高分子膜辐照,辐照剂量从1×1015ions/cm2到1×1......
文章就溅镀作为种子层在FR-4（高Tg）材料上进行了初步的研究，发现：不同的溅镀条件对线路剥离强度较大的影响，只有在适当的溅镀条件时才能......
高透明性的无机超疏水薄膜材料具有广阔的应用前景，采用磁控溅射法制备出表面具有纳米结构的金属Zn前驱体薄膜，并利用在低气压5Pa，温......
分析了双离子束溅射镀膜机的设备原理、功能层次,参照《GJB/Z57维修性分配与预计手册》中的相关要求,根据各部件的故障率和维修经......
一台用于超灵敏质谱（AMS）的带有多靶机构的强流溅射负离子源已经研制完成，为了满足AMS的特殊要求，源的设计着重解决提高流程，降低记忆效......
应用的需求要求研制具有电磁屏蔽特性的透明薄膜,客观条件的限制使得这种薄膜不仅需要足够的透光性,还要具备相当的屏蔽效能.在比......
由真空直流溅射镀膜所得到的样品表面薄膜质量受到镀膜条件的影响，这些条件包括镀膜的氛围和直流电压，其中的惰性气体如氢气的气压控......
